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    鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀

    簡要描述:SuperViewW鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀基于白光干涉原理,以3D非接觸方式,測量分析樣品表面形貌的關鍵參數和尺寸。它結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統軟件對器件表面3D圖像進行數據處理與分析,并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數,從而實現器件表面形貌3D測量。

    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-03-10
    • 訪  問  量:963

    詳細介紹

    品牌中圖儀器產地國產
    加工定制

    中圖儀器SuperViewW鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀基于白光干涉原理,以3D非接觸方式,測量分析樣品表面形貌的關鍵參數和尺寸。它結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統軟件對器件表面3D圖像進行數據處理與分析,并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數,從而實現器件表面形貌3D測量,典型結果包括:

    表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺階高度,錐角等等);

    幾何特征(關鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區域的面積和體積,特征圖形的位置和數量等等)。

    鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀

    產品功能

    1)樣件測量能力:單一掃描模式即可滿足從超光滑到粗糙、鏡面到全透明或黑色材質等所有類型樣件表面的測量;

    2)單區域自動測量:單片平面樣品或批量樣品切換測量點位時,可一鍵實現自動條紋搜索、掃描等功能;

    3)多區域自動測量:可設置方形或圓形的陣列形式的多區域測量點位,一鍵實現自動條紋搜索、掃描等功能;

    4)自動拼接測量;支持方形、圓形、環形和螺旋形式的自動拼接測量功能,配合影像導航功能,可自定義測量區域,支持數千張圖像的無縫拼接測量;

    5)編程測量功能:支持測量和分析同界面操作的軟件模塊,可預先配置數據處理和分析步驟,結合自動單測量功能,實現一鍵測量;

    6)數據處理功能:提供位置調整、去噪、濾波、提取四大模塊的數據處理功能;

    7)數據分析功能:提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。

    8)批量分析功能:可根據需求參數定制數據處理和分析模板,針對同類型參數實現一鍵批量分析;

    9)數據報表導出:支持word、excel、pdf格式的數據報表導出功能,支持圖像、數值結果的導出;

    10)故障排查功能:配置診斷模塊,可保存掃描過程中的干涉條紋圖像;

    11)便捷操作功能:設備配備操縱桿,支持操縱桿進行所有位置軸的操作及速度調節、光源亮度調節、急停等;

    12)環境噪聲評價:具備0.1nm分辨率的環境噪聲評價功能,定量檢測出儀器受到外界環境干擾的噪聲振幅和頻率,為設備調試和故障排查提供定量依據;

    13)氣浮隔振功能:采用氣浮式隔振底座,可有效隔離地面傳導的振動噪聲,確保測量數據的高精度;

    14)光源安全功能:光源設置無人值守下的自動熄燈功能,當檢測到鼠標軌跡長時間未變動后會自主降低熄滅光源,防止光源高亮過熱損壞,并有效延長光源使用壽命;

    15)鏡頭安全功能:雙重防撞保護,軟件ZSTOP防撞保護,設置后即以當前位置為位移下限位,不再下移且伴有報警聲;設備配備壓力傳感器,并在鏡頭處進行了彈簧結構設計,確保當鏡頭碰撞后彈性回縮,進入急停狀態,大幅減小碰撞沖擊力,有效保護鏡頭和掃描軸,消除人為操作的安全風險。

    鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀

    SuperViewW鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中。可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。它具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數涵蓋面廣的優點,測量單個精細器件的過程用時短,確保了高款率檢測。白光干涉儀的特殊光源模式,可以廣泛適用于從光滑到粗糙等各種精細器件表面的測量。


    應用領域圖片

    對各種產品、部件和材料表面的粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。

    鍍膜粗糙度光學輪廓測量儀


    部分技術指標

    型號

    W1

    光源白光LED
    影像系統1024×1024
    干涉物鏡

    標配:10×

    選配:2.5×、5×、20×、50×、100×

    光學ZOOM

    標配:0.5×

    選配:0.375×、0.75×、1×

    標準視場0.98×0.98㎜(10×)


    XY位移平臺

    尺寸
    320×200㎜
    移動范圍140×100㎜
    負載10kg
    控制方式手動和電動兼容型
    Z軸聚焦行程100㎜
    控制方式電動
    臺階測量
    可測樣品反射率0.05%~100
    主機尺寸700×600×900㎜
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